A.上述反應(yīng)中,N2是還原劑,Al2O3是氧化劑
B.上述反應(yīng)中,每生成1molAlN需轉(zhuǎn)移3mol電子
C.AlN中氮元素的化合價(jià)為+3
D.AlN的摩爾質(zhì)量為41g
答案:B
解析:該反應(yīng)中 N2降價(jià)為氧化劑,C升價(jià)為還原劑,每生成1molAlN轉(zhuǎn)移3mol電子,AlN中Al為+3價(jià),N為-3價(jià)。D中摩爾質(zhì)量的單位為g/mol。
對(duì)應(yīng)考點(diǎn):氧化還原反應(yīng)的本質(zhì)。
易錯(cuò)點(diǎn):要理解氧化還原反應(yīng)的過(guò)程及其電子轉(zhuǎn)移的方向。
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
(08年廣東卷)硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請(qǐng)回答下列問(wèn)題:
制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過(guò)程示意圖如下:
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①寫(xiě)出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式________。
②整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì),寫(xiě)出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式____;H2還原SihCl3過(guò)程中若混02,可能引起的后果是______ 。
(2)下列有頭硅材料的詳法正確的是_____ (填字母)。
A.碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,可用于生產(chǎn)耐高溫水混
B.氮化硅硬度大、熔點(diǎn)高,可用于制作高溫陶瓷和軸承
C.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂的,其熔點(diǎn)很高
D.鹽酸可以與硅反應(yīng),故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
E.鹽酸可以和硅反應(yīng),故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
(3)硅酸鈉水溶液俗稱(chēng)水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入飽和氯化銨溶液,振蕩。寫(xiě)出實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象并給予解釋_____。
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