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| A、光照氯水有氣泡逸出,該氣體是Cl2 |
| B、工業(yè)上可用碳在高溫下還原二氧化硅制取硅 |
| C、工業(yè)上可用氯氣和石灰乳為原料制造漂白粉 |
| D、將盛有氫氧化鐵膠體的燒杯置于暗處,用一束光照射,從垂直于光線的方向可以觀察到一條光亮的通路 |
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| A、標(biāo)準(zhǔn)狀況下,22.4LCCl4含有的分子數(shù)為NA |
| B、標(biāo)準(zhǔn)狀況下,3.2g氧氣(O2)和臭氧(O3)中含有的分子總數(shù)為0.1NA |
| C、含4molHCl的濃鹽酸與足量的MnO2反應(yīng),轉(zhuǎn)移電子總數(shù)為2NA |
| D、常溫下,78gNa2O2中含有的陰離子數(shù)是NA |
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| A、含硅材料廣泛用于太陽能電板、半導(dǎo)體材料、光纖通訊以及建筑材料等 |
| B、水晶項(xiàng)鏈和餐桌上的瓷盤都是硅酸鹽制品 |
| C、工藝師利用稀鹽酸刻蝕石英制作藝術(shù)品 |
| D、粗硅制備單晶硅不涉及氧化還原反應(yīng) |
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| A、80 g硝酸銨(NH4NO3)中含有的氮原子數(shù)是NA |
| B、在常溫常壓下,71 g Cl2含有的分子數(shù)為0.5NA |
| C、16 g氧氣和16 g臭氧所含有的原子數(shù)均為NA |
| D、2 mol金屬鋁與足量的鹽酸反應(yīng),共失去4NA個電子 |
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| 金屬 | Na | Cu | Al | Fe |
| 熔點(diǎn)(℃) | 97.5 | 1 083 | 660 | 1 535 |
| 沸點(diǎn)(℃) | 883 | 2 595 | 2 200 | 3 000 |
| A、Cu與Al |
| B、Fe與Cu |
| C、Fe與Na |
| D、Al與Na |
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| 高溫 |
| A、反應(yīng)(1)和(2)均為氧化還原反應(yīng) |
| B、反應(yīng)(1)的氧化劑是O2,氧化產(chǎn)物是Na2CrO4和Fe2O3 |
| C、高溫下O2的氧化性強(qiáng)于Fe2O3,弱于Na2CrO4 |
| D、反應(yīng)(1)中每生成2molFe2O3時電子轉(zhuǎn)移4mol |
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