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實驗室制備、收集干燥的SO₂，所需儀器如下．

（1）裝置A產(chǎn)生SO₂，按氣流方向連接各儀器接口，順序為a→→→→→f．
（2）裝置A中發(fā)生反應的化學方程式為
（3）驗證產(chǎn)生的氣體是SO₂的方法是．

如圖表是元素周期表的一部分，請按要求回答以下問題：

族 周期	ⅠA	ⅡA	ⅢA	ⅣA	ⅤA	ⅥA	ⅦA	0
2				①		②
3	③		④			⑤	⑥

（1）①和②形成的常見化合物有（填化學式，填一種即可）；
（2）在③～⑥中，原子半徑最大的原子結(jié)構(gòu)示意圖是；
（3）④的單質(zhì)與Fe₂O₃在高溫下反應的化學方程式：；
（4）②和⑤的單質(zhì)中，氧化性較弱的是（填化學式）；
（5）⑤的一種氧化物可以與⑥的單質(zhì)的水溶液發(fā)生氧化還原反應，生成兩種強酸，寫出該反應的化學方程式：．

A、B、C、D是四種常見單質(zhì)，其對應元素的原子序數(shù)依次增大，其中B、D屬于常見金屬，其余均為常見化合物，J是一種黑色固體，I的濃溶液具有還原性，A-J的所有物質(zhì)之間有如下的轉(zhuǎn)化關(guān)系（部分反應產(chǎn)物省略）：


（1）B元素和C元素的簡單離子半徑大小關(guān)系是：；  （用離子符號表示）
（2）寫出B與F該反應的化學方程式；
（3）寫出B與NaOH溶液反應的離子方程式；
（4）由E的飽和溶液滴入沸水中形成透明液體，再將此液體裝入U型管，并在U型管的兩端插入電極，接通直流電，在陽極端可觀察到的現(xiàn)象是；
（5）將適量J加入酸化的H₂O₂的溶液中，J溶解生成它的+2價離子，該反應的離子方程式是；
（6）向含有0.1mol G的溶液中滴加5mol/L 的鹽酸溶液，得到沉淀3.9g，則加入鹽酸的體積可能為（mL）．

草酸（H₂C₂O₄）是一種二元弱酸，主要用作還原劑和漂白劑．40℃時混合一定體積的0.1mol?L^-1 H₂C₂O₄溶液與一定體積0.01mol?L^-1酸性KMnO₄溶液，填寫表中空格．

溫度	v（H2C2O4）	v（KMnO4）	KMnO4褪色時間
40℃	10mL	10mL	40s
40℃	20mL	20mL

微電子工業(yè)中化合物A作為半導體、液晶和薄膜太陽能電池等生產(chǎn)過程中的蝕刻劑．在對硅、氮化硅等材料進行蝕刻時具有非常優(yōu)異的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，對表面無污染．
已知：
①化合物A由兩種元素組成，常溫下是一種無色、無臭的氣體，能助燃，當溫度超過350℃時會緩慢分解成兩種氣體單質(zhì)，同溫同壓下氣體A相對于某常見黃綠色氣態(tài)單質(zhì)的相對密度為1；
②化合物B與單質(zhì)C在一定條件下反應生成化合物A及化合物D，常溫下A、B、C、D均為氣體．
③B、D的分子具有相同的電子總數(shù)，且均極易溶于水，D的水溶液顯酸性常用來作玻璃雕刻的腐蝕液；
④C、A均能與水發(fā)生反應．其中，C與水反應生成D溶液及氣體單質(zhì)F；而A與水反應則生成兩種酸溶液及一種氣態(tài)氧化物E（無色、有毒、難溶于水）．
（1）化合物B的結(jié)構(gòu)式是，用相應的化學用語表示B溶于水并發(fā)生電離的過程．
（2）氣體A不可燃但能助燃，故氣體A的應遠離火種且與還原劑、易燃或可燃物等分開存放．結(jié)構(gòu)決定性質(zhì)，試從結(jié)構(gòu)的角度加以分析：．
（3）以A對氮化硅（Si₃N₄）材料的蝕刻為例，用反應方程式來解釋為什么在被蝕刻物表面不留任何殘留物．
（4）“已知④”中A與水發(fā)生的反應屬于氧化還原反應，若反應中生成的氣態(tài)氧化物E標況下為448mL，則生成兩種酸溶液中作為氧化產(chǎn)物的那種酸其物質(zhì)的量為mol．
（5）設(shè)計實驗證明D是一種弱電解質(zhì)．

已知：2SO₂（g）+O₂（g）?2SO₃（g）△H=-196.6kJ?mol^-1．恒溫條件下，容積為1L的恒容容器中，硫可以發(fā)生如下轉(zhuǎn)化，其反應過程和能量關(guān)系如圖所示．
（1）寫出表示硫燃燒熱的熱化學方程式．
（2）△H₂=kJ?mol^-1．
（3）在相同條件下，充入1molSO₃和0.5molO₂，反應達到平衡時SO₃的轉(zhuǎn)化率為，此時該反應吸收kJ的能量．

化學反應原理對于工業(yè)生產(chǎn)和科研有重要意義
I．下列三個化學反應的平衡常數(shù)（K₁、K₂、K₃）與溫度的關(guān)系分別如下表所示：

化學反應	平衡常數(shù)	溫度
		973K	1173K
①Fe（s）+CO2（g）?FeO（s）+CO（g）	K1	1.47	2.15
②Fe（s）+H2O（g）?FeO（s）+H2（g）	K2	2.38	1.67
③CO（g）+H2O（g）?CO2（g）+H2（g）	K3	？	？

請回答：
（1）反應①是（填“吸熱”或“放熱”）反應．
（2）根據(jù)反應①與②可推導出K₁、K₂與K₃之間的關(guān)系，則K₃=（用 K₁、K₂表 示）
（3）要使反應③在一定條件下建立的平衡向逆反應方向移動，可采取的措施有（填寫字母序號）．
A．縮小反應容器的容積      B．擴大反應容器的容積        C．升高溫度
D．使用合適的催化劑        E．設(shè)法減小平衡體系中的CO的濃度
（4）若反應③的正反應速率與時間的關(guān)系如圖所示：

t₂、t₈時都改變了一種條件，試判斷改變的是什么條件：t₂時； t₈時．

離子化合物A由X、Y兩種元素組成．在空氣中充分灼燒得到含X元素的8g紅棕色固體B，并產(chǎn)生能使品紅褪色的氣體C，將該氣體全部通入足量的雙氧水中得D溶液，再向D溶液中加入足量的BaCl₂溶液，過濾、洗滌、干燥得46.6g固體．
（1）寫出A的電子式；
（2）寫出氣體C通入H₂O₂的離子方程式；
（3）將A溶于D的稀溶液中生成E，并產(chǎn)生一種單質(zhì)和一種氣體，寫出該反應的化學方程式；
（4）將化合物E隔絕空氣充分灼燒，使其分解，生成等物質(zhì)的量的B、C和另一種化合物，則另一種化合物的化學式是；有同學認為該分解反應得到的固體產(chǎn)物中除B外，還可能會有含X元素的低價態(tài)物質(zhì)，請判斷該同學的觀點是否合理．理由是；
（5）設(shè)計實驗判斷E完全分解后的固體產(chǎn)物中X元素的價態(tài)．

鈰、鉻、鈷、鎳雖不是中學階段常見的金屬元素，但在工業(yè)生產(chǎn)中有著重要作用．
（1）二氧化鈰 （CeO₂）在平板電視顯示屏中有著重要應用．CeO₂在稀硫酸和H₂O₂的作用下可生成Ce³⁺，CeO₂在該反應中作劑．
（2）自然界Cr主要以+3價和+6價存在．+6價的Cr能引起細胞的突變，可以用亞硫酸鈉將其還原為+3價的鉻．完成并配平下列離子方程式：Cr₂O₇^2-+SO₃^2-+=Cr³⁺+SO₄^2-+H₂O
（3）某鋰離子電池用含有Li⁺的導電固體作為電解質(zhì)．充電時，Li⁺還原為Li，并以原子形式嵌入電極材料C₆中，以LiC₆表示，電池反應為CoO₂+LiC₆ 

放電

充電

 LiCoO₂+C₆．放電時的正極反應式為．如圖表示該裝置工作時電子和離子的移動方向，此時C₆電極作極．
（4）脫硝．利用甲烷催化還原NOx：
CH₄（g）+4NO₂（g）═4NO（g）+CO₂（g）+2H₂O（g）△H₁=-574kJ?mol^-1
CH₄（g）+4NO（g）═2N₂（g）+CO₂（g）+2H₂O（g）△H₂=-1160kJ?mol^-1
甲烷直接將NO₂還原為N₂的熱化學方程式為．
（5）NiSO₄?6H₂O是一種綠色易溶于水的晶體，廣泛用于鍍鎳、電池等，可由電鍍廢渣（除鎳外，還含有銅、鋅、鐵等元素）為原料獲得．操作步驟如下：

廢渣稀硫酸過濾濾液Ⅰ調(diào)pH，加入FeS過濾加H₂O₂，調(diào)pH過濾加Na₂CO₃過濾Ni₂+CO₃濾液Ⅱ濾液Ⅲ稀硫酸Ni₂+HSO₄一系列操作NiSO₄?6H₂O
①向濾液Ⅰ中加入FeS是為了除去Cu²⁺、Zn²⁺等雜質(zhì)，除去Cu²⁺的離子方程式為．
②對濾液Ⅱ調(diào)pH的目的是除去Fe³⁺，其原理是Fe³⁺+3H₂O?Fe（OH）₃+3H⁺，已知25℃時Ksp[Fe（OH）₃]=2.8×10^-39，則該溫度下上述反應的平衡常數(shù)K=．
③濾液Ⅲ溶質(zhì)的主要成分是NiSO₄，加Na₂CO₃過濾后，再加適量稀硫酸溶解又生成NiSO₄，這兩步操作的目的是．

（1）恒溫下，向pH=6的蒸餾水中加入2.3g金屬鈉，充分反應后，再加蒸餾水稀釋到1L，所得溶液的pH=．
（2）向pH=6的蒸餾水和c（H⁺）=10^-6mol?L^-1的稀鹽酸中分別投入大小、質(zhì)量相同的金屬鈉，反應剛開始時，產(chǎn)生H₂的速率前者與后者相比是（填選項序號）．
A、一樣快   B、前者快  C、后者快     D、無法比較
（3）用惰性電極電解NaCl與NaHCO₃混合液，測得溶液pH變化如圖所示
①在0→t₁時間內(nèi)，兩個電極上的電極反應式為：陽極；陰極．
②用離子方程式表明0→t₁時間內(nèi)，溶液pH升高比較緩慢的原因：．