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氫氣與四氯化硅的反應:2H2 + SiCl4 == 4HCl + Si 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

計算機芯片和太陽能光伏發(fā)電最關鍵的材料是高純硅(Si).在高溫條件下,硅可以通過如下反應制備:
SiCl4+2H2
 高溫 
.
 
Si+4HCl;現(xiàn)有680Kg四氯化硅(SiCl4)與足量的氫氣反應,理論上可以制的高純硅(Si)的質量為多少?

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寫出下列反應的化學方程式:
(1)實驗室用氯酸鉀制氧氣
2KClO3
MnO2
.
2KCl+3O2
2KClO3
MnO2
.
2KCl+3O2

(2)有兩種氣體生成的分解反應
2H2O
 通電 
.
 
2H2↑+O2
2H2O
 通電 
.
 
2H2↑+O2

(3)硅是信息技術的關鍵材料.高溫下氫氣與四氯化硅(SiCl4)反應可制得高純度的硅,同時生成氯化氫.該反應的化學方程式為
2H2+SiCl4
 高溫 
.
 
Si+4HCl
2H2+SiCl4
 高溫 
.
 
Si+4HCl

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寫出下列反應的化學方程式,并在括號內注明反應的基本類型:
(1)鎂條在空氣中燃燒
2Mg+O2
 點燃 
.
 
2MgO
2Mg+O2
 點燃 
.
 
2MgO
化合
化合
反應;
(2)高溫下一氧化碳與氧化鐵反應
Fe2O3+3CO
 高溫 
.
 
2Fe+3CO2
Fe2O3+3CO
 高溫 
.
 
2Fe+3CO2

(3)硅是信息技術的關鍵材料.高溫下氫氣與四氯化硅(SiCl4)反應可制得高純度的硅,同時生成氯化氫.該反應的化學方程式為
2H2+SiCl4
 高溫 
.
 
Si+4HCl;置換
2H2+SiCl4
 高溫 
.
 
Si+4HCl;置換
反應.

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用化學方程式描述下列事實:
(1)常溫下,鋁具有很好的抗腐蝕性能,用反應的化學方程式解釋原因是
4Al+3O2═2Al2O3
4Al+3O2═2Al2O3
;
(2)用一氧化碳與赤鐵礦(主要成分是Fe2O3)反應煉鐵
3CO+Fe2O3
 高溫 
.
 
2Fe+3CO2
3CO+Fe2O3
 高溫 
.
 
2Fe+3CO2

(3)高溫煅燒石灰石
CaCO3
 高溫 
.
 
CaO+CO2
CaCO3
 高溫 
.
 
CaO+CO2

(3)硅是信息技術的關鍵材料.高溫下氫氣與四氯化硅(SiCl4)反應可制得高純度的硅,同時生成氯化氫氣體.該反應的化學方程式為
2H2+SiCl4
 高溫 
.
 
Si+4HCl
2H2+SiCl4
 高溫 
.
 
Si+4HCl

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寫出下列反應的化學方程式:
(1)鐵絲在氧氣中燃燒:
3Fe+2O2
 點燃 
.
 
Fe3O4
3Fe+2O2
 點燃 
.
 
Fe3O4
;
(2)碳酸鈉溶液與氫氧化鈣溶液反應,生成氫氧化鈉和碳酸鈣:
Na2CO3+Ca(OH)2=2NaOH+CaCO3
Na2CO3+Ca(OH)2=2NaOH+CaCO3
;
(3)鋁片插入到硫酸銅溶液中:
2Al+3CuSO4=Al2(SO43+3Cu
2Al+3CuSO4=Al2(SO43+3Cu

(4)硅是信息技術的關鍵材料.高溫下氫氣與四氯化硅(SiCl4)反應可制得高純度的硅,同時生成氯化氫.該反應的化學方程式為
2H2+SiCl4
 高溫 
.
 
Si+4HCl
2H2+SiCl4
 高溫 
.
 
Si+4HCl

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