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標(biāo)準(zhǔn)狀況下，1體積水中能溶解500體積的HCl氣體．
（1）若向水中通入標(biāo)準(zhǔn)狀況下的44.8LHCl氣體配成1L溶液，假設(shè)氣體完全溶解，得溶液中含HCl的物質(zhì)的量濃度為．
（2）從該溶液中取出10mL濃鹽酸溶解于水配制成250mL溶液，實(shí)驗(yàn)時(shí)應(yīng)選用儀器是（填字母）；
若實(shí)驗(yàn)儀器有：
A．托盤天平、B.100mL量筒、C．玻璃棒、D.100mL容器瓶、E.10mL量筒、F．膠頭滴管、G．燒杯、H.250mL容量瓶．
配制后的稀溶液中含HCl物質(zhì)的量濃度為．
（3）在容量瓶的使用方法中，下列操作不正確的是（填字母）；
A．使用容量瓶前檢查其是否漏水．
B．容量瓶用蒸餾水洗凈后，再用待配溶液洗滌．
C．配制溶液時(shí)，如果試樣是固體，把稱好的試樣用紙條小心倒入容量瓶中，緩慢加入蒸餾水到接近刻度線1-2cm處，用膠頭滴管滴加蒸餾水到刻度線．
D．配制溶液時(shí)，如果試樣是液體，用量筒量取試樣后直接倒入容量瓶中，緩慢加入蒸餾水到接近刻度線1-2cm處，用膠頭滴管滴加蒸餾水到刻度線．
E．蓋好瓶蓋，用食指頂住瓶塞，用另一只手的手指托住瓶底，把容量瓶倒轉(zhuǎn)和搖動(dòng)多次
（4）配制過程中，造成濃度偏低的操作可能有（選填下列操作的序號(hào)）．
A．容量瓶蒸餾水洗后未加干燥
B．量筒用蒸餾水洗后未干燥
C．將燒杯中濃鹽酸移入容量瓶后，未用水洗滌燒杯，即向容量中加水到刻度
D、用膠頭滴管向容量瓶中加水時(shí)，不慎超過刻度線，用另外膠頭滴管從瓶中吸出部分溶液使剩余溶液剛巧達(dá)刻度線
E．定容時(shí)，俯視液面加水至刻度線．

高純硅是當(dāng)今科技的核心材料．工業(yè)上，用氫氣還原四氯化硅制得高純硅的反應(yīng)為SiCl₄（g）+2H₂（g）

高溫

Si（s）+4HCl（g）．已知SiCl₄可完全水解生成硅酸和鹽酸．向容積為1L的密閉容器中充入一定量的SiCl₄（g）和H₂（g），分別在T₁和T₂溫度時(shí)進(jìn)行反應(yīng)．SiCl₄的物質(zhì)的量隨時(shí)間變化情況如下表所示：

時(shí)間/min	0	2	4	t1	t2
n（SiCl4）/mol
溫度/℃
T1	5.0	4.5	4.2	n1	n1
T2	5.0	4.2	3.6	n2	n2

（1）T₁時(shí)，反應(yīng)開始的2min內(nèi)，用HCl表示的反應(yīng)速率為．
（2）該反應(yīng)的平衡常數(shù)表達(dá)式為：K=．
（3）保持其他條件不變，下列措施可提高SiCl₄轉(zhuǎn)化率的是．
a．充入更多的SiCl₄（g）    b．充入更多的H₂（g）         c．及時(shí)分離出Si（s）
d．使用催化劑           e．將容器的體積擴(kuò)大一倍
（4）據(jù)上表中的數(shù)據(jù)分析：T₁  T₂（填“＞”或“＜”，下同），理由是．
已知n₁＞n₂，△H0．
（5）有同學(xué)認(rèn)為，采用水淋法來(lái)吸收生成的HCl，可以提高SiCl₄的轉(zhuǎn)化率．該認(rèn)識(shí)（填“合理”或“不合理”），理由是．
（6）將平衡后的混合氣體溶于水，取少量上層清液，向其中滴加足量的AgNO₃溶液，反應(yīng)后過濾，取沉淀向其中加入Na₂S溶液，可觀察到．