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5．下列有關(guān)Si及SiO2的用途說(shuō)法不正確的是 ( ) A．SiO2用于制造光導(dǎo)纖維 B．水晶.瑪瑙和石英的主要成分都是SiO2 C．Si可用于造變壓器鐵芯 D．因?yàn)镾i是導(dǎo)體.所以可以用于制造集成電路 【查看更多】

 

題目列表(包括答案和解析)

晶體硅是一種重要的非金屬材料，在現(xiàn)代電子工業(yè)中具有非常重要的應(yīng)用．工業(yè)上制備高純硅的主要步驟如下：

（1）下列有關(guān)硅及化合物的說(shuō)法，正確的是
ABD
ABD
．
A．石英的主要成分是SiO2
B．太陽(yáng)能電池使用單質(zhì)硅做材料，其應(yīng)用有利于環(huán)保、節(jié)能
C．粗硅制備高純硅的過(guò)程不涉及氧化還原反應(yīng)
D．玻璃、水泥、陶瓷都屬于硅酸鹽產(chǎn)品
（2）SiCl4在室溫下為無(wú)色液體，易揮發(fā)，粗硅與氯氣反應(yīng)得到的粗SiCl4中含有大量固體雜質(zhì)，通過(guò)“操作A”提純得到純SiCl4，操作A的名稱是
蒸餾（分餾、精餾均可）
蒸餾（分餾、精餾均可）
．
（3）整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧．H2還原SiCl4過(guò)程中發(fā)生的反應(yīng)是：
2H2+SiCl4
 高溫 
.
 
Si+4HCl
2H2+SiCl4
 高溫 
.
 
Si+4HCl
在該過(guò)程中若有O2混入，可能引起的后果是
引起爆炸
引起爆炸
．

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晶體硅是一種重要的非金屬材料，在現(xiàn)代電子工業(yè)中具有非常重要的應(yīng)用．工業(yè)上制備高純硅的主要步驟如下：

（1）下列有關(guān)硅及化合物的說(shuō)法，正確的是______．
A．石英的主要成分是SiO2
B．太陽(yáng)能電池使用單質(zhì)硅做材料，其應(yīng)用有利于環(huán)保、節(jié)能
C．粗硅制備高純硅的過(guò)程不涉及氧化還原反應(yīng)
D．玻璃、水泥、陶瓷都屬于硅酸鹽產(chǎn)品
（2）SiCl4在室溫下為無(wú)色液體，易揮發(fā)，粗硅與氯氣反應(yīng)得到的粗SiCl4中含有大量固體雜質(zhì)，通過(guò)“操作A”提純得到純SiCl4，操作A的名稱是______．
（3）整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧．H2還原SiCl4過(guò)程中發(fā)生的反應(yīng)是：______ Si+4HCl

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晶體硅是一種重要的非金屬材料，在現(xiàn)代電子工業(yè)中具有非常重要的應(yīng)用。工業(yè)上制備高純硅的主要步驟如下
（1）下列有關(guān)硅及化合物的說(shuō)法，正確的是__________。
A．石英的主要成分是SiO2
B．太陽(yáng)能電池使用單質(zhì)硅做材料，其應(yīng)用有利于環(huán)保、節(jié)能
C．粗硅制備高純硅的過(guò)程不涉及氧化還原反應(yīng)
D．玻璃、水泥、陶瓷都屬于硅酸鹽產(chǎn)品
（2）SiCl4在室溫下為無(wú)色液體，易揮發(fā)，粗硅與氯氣反應(yīng)得到的粗SiCl4中含有大量固體雜質(zhì)，通過(guò)操作A提純得到純SiCl4，操作A的名稱是___________。
（3）整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧。H2還原SiCl4過(guò)程中發(fā)生的反應(yīng)是：______________________在該過(guò)程中若有O2混入，可能引起的后果是___________________________。

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下列關(guān)于Si與SiO2的敘述中, 錯(cuò)誤的是  

[　　]

A.常溫下, Si和SiO2均不能與F2、HF及NaOH溶液發(fā)生反應(yīng).

B.Si、SiO2和HCl、HNO3、H2SO4,均不反應(yīng)(常溫).

C.Si的最高氧化物水化物是H4SiO4, 它的酸酐是SiO2.

D.SiO2與Na2CO3反應(yīng)生成Na2SiO3和CO2說(shuō)明SiO2比CO2活潑.   

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下列有關(guān)現(xiàn)象及對(duì)應(yīng)的離子方程式或化學(xué)反應(yīng)方程式不正確的是（　�。�

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