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晶體硅是一種重要的非金屬材料.在現(xiàn)代電子工業(yè)中具有非常重要的應(yīng)用.工業(yè)上制備高純硅的主要步驟如下: (1)下列有關(guān)硅及化合物的說(shuō)法.正確的是 . A.石英的主要成分是SiO2 B.太陽(yáng)能電池使用單質(zhì)硅做材料.其應(yīng)用有利于環(huán)保.節(jié)能 C.粗硅制備高純硅的過(guò)程不涉及氧化還原反應(yīng) D.玻璃.水泥.陶瓷都屬于硅酸鹽產(chǎn)品 (2)SiCl4在室溫下為無(wú)色液體.易揮發(fā).粗硅與氯氣反應(yīng)得到的粗SiCl4中含有大量固體雜質(zhì).通過(guò)“操作A 提純得到純SiCl4.操作A的名稱(chēng)是 . (3)整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧.H2還原SiCl4過(guò)程中發(fā)生的反應(yīng)是: 在該過(guò)程中若有O2混入.可能引起的后果是 . 2009-2010學(xué)年度第二學(xué)期期中考試五校聯(lián)考 【查看更多】

 

題目列表(包括答案和解析)

晶體硅是一種重要的非金屬材料，在現(xiàn)代電子工業(yè)中具有非常重要的應(yīng)用．工業(yè)上制備高純硅的主要步驟如下：

（1）下列有關(guān)硅及化合物的說(shuō)法，正確的是
ABD
ABD
．
A．石英的主要成分是SiO2
B．太陽(yáng)能電池使用單質(zhì)硅做材料，其應(yīng)用有利于環(huán)保、節(jié)能
C．粗硅制備高純硅的過(guò)程不涉及氧化還原反應(yīng)
D．玻璃、水泥、陶瓷都屬于硅酸鹽產(chǎn)品
（2）SiCl4在室溫下為無(wú)色液體，易揮發(fā)，粗硅與氯氣反應(yīng)得到的粗SiCl4中含有大量固體雜質(zhì)，通過(guò)“操作A”提純得到純SiCl4，操作A的名稱(chēng)是
蒸餾（分餾、精餾均可）
蒸餾（分餾、精餾均可）
．
（3）整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧．H2還原SiCl4過(guò)程中發(fā)生的反應(yīng)是：
2H2+SiCl4
 高溫 
.
 
Si+4HCl
2H2+SiCl4
 高溫 
.
 
Si+4HCl
在該過(guò)程中若有O2混入，可能引起的后果是
引起爆炸
引起爆炸
．

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晶體硅是一種重要的非金屬材料，在現(xiàn)代電子工業(yè)中具有非常重要的應(yīng)用．工業(yè)上制備高純硅的主要步驟如下：

（1）下列有關(guān)硅及化合物的說(shuō)法，正確的是______．
A．石英的主要成分是SiO2
B．太陽(yáng)能電池使用單質(zhì)硅做材料，其應(yīng)用有利于環(huán)保、節(jié)能
C．粗硅制備高純硅的過(guò)程不涉及氧化還原反應(yīng)
D．玻璃、水泥、陶瓷都屬于硅酸鹽產(chǎn)品
（2）SiCl4在室溫下為無(wú)色液體，易揮發(fā)，粗硅與氯氣反應(yīng)得到的粗SiCl4中含有大量固體雜質(zhì)，通過(guò)“操作A”提純得到純SiCl4，操作A的名稱(chēng)是______．
（3）整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧．H2還原SiCl4過(guò)程中發(fā)生的反應(yīng)是：______在該過(guò)程中若有O2混入，可能引起的后果是______．

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晶體硅是一種重要的非金屬材料，在現(xiàn)代電子工業(yè)中具有非常重要的應(yīng)用．工業(yè)上制備高純硅的主要步驟如下：

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（1）下列有關(guān)硅及化合物的說(shuō)法，正確的是______．
A．石英的主要成分是SiO2
B．太陽(yáng)能電池使用單質(zhì)硅做材料，其應(yīng)用有利于環(huán)保、節(jié)能
C．粗硅制備高純硅的過(guò)程不涉及氧化還原反應(yīng)
D．玻璃、水泥、陶瓷都屬于硅酸鹽產(chǎn)品
（2）SiCl4在室溫下為無(wú)色液體，易揮發(fā)，粗硅與氯氣反應(yīng)得到的粗SiCl4中含有大量固體雜質(zhì)，通過(guò)“操作A”提純得到純SiCl4，操作A的名稱(chēng)是______．
（3）整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧．H2還原SiCl4過(guò)程中發(fā)生的反應(yīng)是：______在該過(guò)程中若有O2混入，可能引起的后果是______．

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晶體硅是一種重要的非金屬材料，在現(xiàn)代電子工業(yè)中具有非常重要的應(yīng)用．工業(yè)上制備高純硅的主要步驟如下：

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（1）下列有關(guān)硅及化合物的說(shuō)法，正確的是______．
A．石英的主要成分是SiO2
B．太陽(yáng)能電池使用單質(zhì)硅做材料，其應(yīng)用有利于環(huán)保、節(jié)能
C．粗硅制備高純硅的過(guò)程不涉及氧化還原反應(yīng)
D．玻璃、水泥、陶瓷都屬于硅酸鹽產(chǎn)品
（2）SiCl4在室溫下為無(wú)色液體，易揮發(fā)，粗硅與氯氣反應(yīng)得到的粗SiCl4中含有大量固體雜質(zhì)，通過(guò)“操作A”提純得到純SiCl4，操作A的名稱(chēng)是______．
（3）整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧．H2還原SiCl4過(guò)程中發(fā)生的反應(yīng)是：______在該過(guò)程中若有O2混入，可能引起的后果是______．

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晶體硅是一種重要的非金屬材料，在現(xiàn)代電子工業(yè)中具有非常重要的應(yīng)用。工業(yè)上制備高純硅的主要步驟如下
（1）下列有關(guān)硅及化合物的說(shuō)法，正確的是__________。
A．石英的主要成分是SiO2
B．太陽(yáng)能電池使用單質(zhì)硅做材料，其應(yīng)用有利于環(huán)保、節(jié)能
C．粗硅制備高純硅的過(guò)程不涉及氧化還原反應(yīng)
D．玻璃、水泥、陶瓷都屬于硅酸鹽產(chǎn)品
（2）SiCl4在室溫下為無(wú)色液體，易揮發(fā)，粗硅與氯氣反應(yīng)得到的粗SiCl4中含有大量固體雜質(zhì)，通過(guò)操作A提純得到純SiCl4，操作A的名稱(chēng)是___________。
（3）整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧。H2還原SiCl4過(guò)程中發(fā)生的反應(yīng)是：______________________在該過(guò)程中若有O2混入，可能引起的后果是___________________________。

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