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如圖所示，A、B、C三個(gè)燒杯中分別盛有相同物質(zhì)的量濃度的稀硫酸（B、C中金屬棒分別用導(dǎo)線連接）．
（1）A中反應(yīng)的離子方程式為；
（2）B中Cu極的電極反應(yīng)式為，一段時(shí)間后溶液的pH值（填“變大”、“變小”、“不變”）；
（3）C中被腐蝕的金屬是，裝置中總反應(yīng)方程式為，比較A、B、C中鐵反應(yīng)的速率由快到慢的順序?yàn)?!--BA-->（用字母ABC表示）．

如圖所示，A、B、C三個(gè)裝置的燒杯中分別盛有足量的CuCl₂溶液．

（1）A、B、C三個(gè)裝置中屬于電解池的是．
（2）A池中Cu是極，A池中總反應(yīng)的離子方程式為．
（3）B池中C電極上發(fā)生反應(yīng)（填“氧化”或“還原”），B池中總反應(yīng)的化學(xué)方程式為．
（4）C池中Cu是極，電極反應(yīng)為．反應(yīng)過程溶液中C（Cu²⁺）（填“變大”“變小”或“不變”）．

如圖所示，A、B、C三個(gè)裝置的燒杯中分別盛有足量的CuCl₂溶液．



（1）A、B、C三個(gè)裝置中屬于電解池的是______．
（2）A池中Cu是______極，A池中總反應(yīng)的離子方程式為______．
（3）B池中C電極上發(fā)生______反應(yīng)（填“氧化”或“還原”），B池中總反應(yīng)的化學(xué)方程式為______．
（4）C池中Cu是______極，電極反應(yīng)為______．反應(yīng)過程溶液中C（Cu²⁺）______（填“變大”“變小”或“不變”）．