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除雜，括號(hào)中為雜質(zhì)
（1）除去NaHCO₃溶液中的Na₂CO₃雜質(zhì)，用試劑，離子方程式．
（2）NaCl（Na₂CO₃），用試劑，離子方程式．
（3）Cu（Fe），用試劑，離子方程式．

電子工業(yè)常用30%的FeCl₃溶液腐蝕敷在絕緣板上的銅箔，制造印刷電路板．
（1）寫(xiě)出FeCl₃溶液與銅箔發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式：；若反應(yīng)過(guò)程中有2mol電子發(fā)生轉(zhuǎn)移，會(huì)有 g Cu溶解．
（2）某工程師為了從使用過(guò)的腐蝕廢液（不含F(xiàn)eCl₃）中回收銅，并重新獲得純凈的FeCl₃溶液，準(zhǔn)備采用下列步驟：

請(qǐng)寫(xiě)出上述試驗(yàn)過(guò)程中②⑤的化學(xué)式：②，⑤．
請(qǐng)寫(xiě)出①⑥兩步反應(yīng)的離子方程式：；．

已知某工業(yè)廢水中含有大量FeSO₄，較多的Cu²⁺，少量的Na⁺以及部分污泥，通過(guò)下列流程可從該廢水中回收FeSO₄?7H₂O晶體及金屬Cu．

（1）步驟1、步驟2、步驟3的主要操作是相同”或“不相同”），需用到的玻璃儀器除燒杯外還有．
（2）步驟2中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為；
（3）步驟3中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為；
（4）步驟4中涉及的操作是：蒸發(fā)濃縮．．過(guò)濾．洗滌．烘干．
（5）最后的固體單質(zhì)是（填名稱）．

某試樣X(jué)由氧化亞鐵和氧化銅組成．取質(zhì)量相等的兩份試樣按下圖進(jìn)行實(shí)驗(yàn)：

（1）請(qǐng)寫(xiě)出步驟①中發(fā)生的全部反應(yīng)的離子方程式
（2）請(qǐng)寫(xiě)出步驟③中發(fā)生的全部反應(yīng)的離子方程式．
（3）若全部的溶液Y和全部的粉末Z充分反應(yīng)生成不溶物W的質(zhì)量為32g，氣體F在標(biāo)準(zhǔn)狀況下體積為5.6L，所得溶液的體積為200mL，則每份試樣X(jué)的質(zhì)量g，所得溶液E中Fe²⁺的物質(zhì)的量濃度為mol/L．

試樣X(jué)由氧化亞鐵和氧化銅組成．取質(zhì)量相等的兩份試樣按下圖所示進(jìn)行實(shí)驗(yàn)：
（1）請(qǐng)寫(xiě)出步驟③中所發(fā)生的全部反應(yīng)的離子方程式．
（2）若全部的溶液Y和全部的粉末Z充分反應(yīng)后，生成的不溶物W的質(zhì)量是m，則每份試樣X(jué)中氧化銅的質(zhì)量為．（用m表示）