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根據(jù)題意書寫方程式 (1)NaHSO4電離方程式: (2)Na2CO3電離方程式: (3)電解飽和食鹽水的離子方程式: (4)鈉與水反應(yīng)的離子方程式: 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

下表列出了九種元素在元素周期表中的位置:


周期
I A II A III A IV A V A VI A VII A 0
2 E F
3 A C D G R
4 B H
根據(jù)題意,用元素符號或化學(xué)式填空:
(1)這幾種元素中,金屬性最強(qiáng)的是
K
K
;化學(xué)性質(zhì)最不活潑的是
Ar
Ar

(2)G元素和H元素的核電荷數(shù)之差是
18
18
;含有6個中子的E原子的化學(xué)符號為
126C
126C

(3)A、B、C三種元素的原子半徑由大到小的順序為
K>Na>Mg
K>Na>Mg

(4)用電子式表示H元素跟A元素形成化合物的過程

(5)C、D兩元素比較,金屬性較強(qiáng)的是
Mg
Mg
,可以驗證該結(jié)論的實驗是
②③
②③
 (用編號表示).
①將在空氣中放置已久的C和D的單質(zhì)分別與熱水反應(yīng)
②將除去氧化物薄膜的C與D的單質(zhì)分別和熱水作用,并滴入酚酞溶液
③將除去氧化物薄膜的C與D的單質(zhì)分別和2mL1mol?L-1的鹽酸反應(yīng)
④比較這兩種元素的氣態(tài)氫化物的穩(wěn)定性
(6)D和F兩種元素形成的化合物與強(qiáng)堿反應(yīng)的離子方程式為
Al2O3+2OH-=2AlO2-+H2O
Al2O3+2OH-=2AlO2-+H2O

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常溫下,某水溶液M中存在的離子有:Na+、A2-、HA-、H+、OH-,存在的分子有H2O、H2A.根據(jù)題意回答下列問題:
(1)寫出酸H2A的電離方程式
H2A?H++HA-、HA-?H++A2-
H2A?H++HA-、HA-?H++A2-

(2)若溶液M由10mL 2mol?L-1NaHA溶液與2mol?L-1NaOH溶液等體積混合而得,則溶液M的pH
7(填“>”、“<”或“=”),溶液中離子濃度由大到小順序為
c(Na+)>c(A2-)>c(OH-)>c(HA-)>c(H+
c(Na+)>c(A2-)>c(OH-)>c(HA-)>c(H+
.已知Ksp(BaA)=1.8×10-10,向該混合溶液中加入10mL 1mol?L-1BaCl2溶液,混合后溶液中的Ba2+濃度為
5.4×10-10
5.4×10-10
 mol?L-1
(3)若溶液M由下列三種情況:①0.01mol?L-1的H2A溶液;②0.01mol?L-1的NaHA溶液;③0.02mol?L-1的HCl與0.04mol?L-1的NaHA溶液等體積混合液,則三種情況的溶液中H2A分子濃度最大的為
;pH由大到小的順序為
②>③>①
②>③>①

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(2013?浦東新區(qū)二模)用霞石巖(主要成份Na2O、K2O、Al2O3、SiO2)制碳酸鈉、碳酸鉀和氧化鋁的工藝流程如下:
已知:NaHCO3溶液的pH約為8~9,Na2CO3溶液的pH約為11~12.溶解過濾工序產(chǎn)生的濾液中含鈉、鉀和鋁的可溶性鹽類,鈣和硅等其他雜質(zhì)在濾渣霞石泥中.部分物質(zhì)的溶解度見下圖,根據(jù)題意回答下列問題:

(1)固體M的化學(xué)式是
Al2O3
Al2O3
,X物質(zhì)是
CO2
CO2

(2)實驗室進(jìn)行煅燒操作時盛放固體物質(zhì)的實驗儀器是
坩堝
坩堝
,濾液W中主要含有的離子有
Na+、K+、HCO3-
Na+、K+、HCO3-

(3)碳酸化Ⅰ中發(fā)生主要反應(yīng)的離子方程式是
2AlO2-+CO2+3H2O=2Al(OH)3↓+CO32-
2AlO2-+CO2+3H2O=2Al(OH)3↓+CO32-

(4)操作Ⅰ是
蒸發(fā)
蒸發(fā)
(填寫名稱),操作Ⅱ是
a
a
(選填編號).
a.趁熱過濾    b.冷卻過濾    c.蒸餾     d.灼燒
(5)碳酸化Ⅱ調(diào)整pH=8的目的是
碳酸根轉(zhuǎn)化為碳酸氫根離子,利于KHCO3結(jié)晶析出
碳酸根轉(zhuǎn)化為碳酸氫根離子,利于KHCO3結(jié)晶析出
,產(chǎn)品K2CO3中最可能含有的雜質(zhì)是
Na2CO3
Na2CO3
(寫化學(xué)式).
(6)實驗室用下面流程測定產(chǎn)品碳酸鉀的純度,為提高實驗精度,T試劑最好是
足量BaCl2溶液
足量BaCl2溶液
;操作Ⅲ的名稱是
恒重操作(重復(fù)干燥稱量操作)
恒重操作(重復(fù)干燥稱量操作)

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氮化硅(Si3N4)是一種新型陶瓷材料,它可用石英與焦炭在高溫的氮氣流中反應(yīng)制得:
 
SiO2+
 
C+
 
N2
高溫
 
Si3N4+
 
CO
根據(jù)題意完成下列各題:
(1)配平上述化學(xué)反應(yīng)方程式(若計量數(shù)為1不要填).
(2)為了保證石英和焦炭盡可能的轉(zhuǎn)化,氮氣要適當(dāng)過量.某次反應(yīng)用了20mol氮氣,反應(yīng)生成了5mol一氧化碳,則反應(yīng)中轉(zhuǎn)移電子為
 
NA,此時混合氣體的平均相對分子質(zhì)量是
 

(3)分析反應(yīng)可推測碳、氮氣的氧化性
 
 
(填化學(xué)式).
(4)氮化硅陶瓷的機(jī)械強(qiáng)度高,硬度接近于剛玉(Al2O3),熱穩(wěn)定性好,化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定.以下用途正確的是
 

A.可以在冶金工業(yè)上制成坩堝、鋁電解槽襯里等熱工設(shè)備上
B.在電子工業(yè)上制成耐高溫的電的良導(dǎo)體
C.研發(fā)氮化硅的全陶發(fā)動機(jī)替代同類型金屬發(fā)動機(jī)
D.氮化硅陶瓷的開發(fā),將受到資源的限制,發(fā)展前途暗淡.

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已知二元酸H2A的電離方程式為:H2A=H++HA-   HA-?H++A2-
根據(jù)題意回答下列問題:
(1)NaHA溶液顯
性(填“酸”、“堿”或“中”),NaHA溶液中存在的分子有
H2O
H2O

(2)若0.01mol/L的NaHA溶液中c(A2-)=amol/L,則0.01mol/L的H2A溶液中c(A2-
amol/L(填“>”、“<”或“=”),判斷依據(jù)是
H2A第一步電離生成的H+抑制了HA-的電離
H2A第一步電離生成的H+抑制了HA-的電離

(3)某溶液由1mol/LNaHA溶液與1mol/LNaOH溶液在常溫下等體積混合而得,則該溶液的pH
7 (填“>”、“<”或“=”),溶液中離子濃度由大到小順序為
c(Na+)>c(A2-)>c(OH-)>c(HA-)>c(H+
c(Na+)>c(A2-)>c(OH-)>c(HA-)>c(H+

(4)現(xiàn)有A、B、C、D四種溶液,它們分別是Na2A溶液、鹽酸、氨水,Na2SO4溶液中的一種,已知A、B溶液中水的電離程度相同,A、C溶液的pH相同,則A溶液是
氨水
氨水
,四種溶液中水的電離程度由大到小的關(guān)系為
C>D>A=B
C>D>A=B
.(用“A、B、C、D”表示)

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