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（14分）高純硅是當(dāng)今科技的核心材料。工業(yè)上，用氫氣還原四氯化硅制得高純硅的反應(yīng)為SiCl₄（g）+2H₂（g） Si（s）+4HCl（g） 。已知SiCl₄可完全水解生成硅酸和鹽酸。向容積為1L的密閉容器中充入一定量的SiCl₄（g）和H₂（g），分別在T₁和T₂溫度時(shí)進(jìn)行反應(yīng)。SiCl₄的物質(zhì)的量隨時(shí)間變化情況如下表所示：

（1）T₁時(shí)，反應(yīng)開(kāi)始的2 min內(nèi)， 用HCl表示的反應(yīng)速率為               。

（2）該反應(yīng)的平衡常數(shù)表達(dá)式為：K＝                           。

（3）保持其他條件不變，下列措施可提高SiCl₄轉(zhuǎn)化率的是      　　　    。

a．充入更多的SiCl₄（g）

b．充入更多的H₂（g）

c．及時(shí)分離出Si（s）

d．使用催化劑

e．將容器的體積擴(kuò)大一倍

（4）據(jù)上表中的數(shù)據(jù)分析：T₁         T₂（填“＞”或“＜”，下同），理由是           。已知n₁>n₂，ΔH        0。

（5）有同學(xué)認(rèn)為，采用水淋法來(lái)吸收生成的HCl，可以提高SiCl₄的轉(zhuǎn)化率。該認(rèn)識(shí)      （填“合理”或“不合理”），理由是                             。

（6）將平衡后的混合氣體溶于水，取少量上層清液，向其中滴加足 量的AgNO3溶液，反應(yīng)后過(guò)濾，取沉淀向其中加入Na₂S溶液，可觀察到                    。

（14分）高純硅是當(dāng)今科技的核心材料。工業(yè)上，用氫氣還原四氯化硅制得高純硅的反應(yīng)為SiCl₄（g）+2H₂（g） Si（s）+4HCl（g）。已知SiCl₄可完全水解生成硅酸和鹽酸。向容積為1L的密閉容器中充入一定量的SiCl₄（g）和H₂（g），分別在T₁和T₂溫度時(shí)進(jìn)行反應(yīng)。SiCl₄的物質(zhì)的量隨時(shí)間變化情況如下表所示：

（1）T₁時(shí)，反應(yīng)開(kāi)始的2 min內(nèi)，用HCl表示的反應(yīng)速率為              。
（2）該反應(yīng)的平衡常數(shù)表達(dá)式為：K＝                          。
（3）保持其他條件不變，下列措施可提高SiCl₄轉(zhuǎn)化率的是     　　　   。
a．充入更多的SiCl₄（g）
b．充入更多的H₂（g）
c．及時(shí)分離出Si（s）
d．使用催化劑
e．將容器的體積擴(kuò)大一倍
（4）據(jù)上表中的數(shù)據(jù)分析：T₁        T₂（填“＞”或“＜”，下同），理由是          。已知n₁>n₂，ΔH       0。
（5）有同學(xué)認(rèn)為，采用水淋法來(lái)吸收生成的HCl，可以提高SiCl₄的轉(zhuǎn)化率。該認(rèn)識(shí)     （填“合理”或“不合理”），理由是                            。
（6）將平衡后的混合氣體溶于水，取少量上層清液，向其中滴加足量的AgNO3溶液，反應(yīng)后過(guò)濾，取沉淀向其中加入Na₂S溶液，可觀察到                   。

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（1）T₁時(shí)，反應(yīng)開(kāi)始的2 min內(nèi)， 用HCl表示的反應(yīng)速率為               。

（2）該反應(yīng)的平衡常數(shù)表達(dá)式為：K＝                           。

（3）保持其他條件不變，下列措施可提高SiCl₄轉(zhuǎn)化率的是      　　　    。

a．充入更多的SiCl₄（g）

b．充入更多的H₂（g）

c．及時(shí)分離出Si（s）

d．使用催化劑

e．將容器的體積擴(kuò)大一倍

（4）據(jù)上表中的數(shù)據(jù)分析：T₁         T₂（填“＞”或“＜”，下同），理由是           。已知n₁>n₂，ΔH        0。

（5）有同學(xué)認(rèn)為，采用水淋法來(lái)吸收生成的HCl，可以提高SiCl₄的轉(zhuǎn)化率。該認(rèn)識(shí)      （填“合理”或“不合理”），理由是                             。

（6）將平衡后的混合氣體溶于水，取少量上層清液，向其中滴加足 量的AgNO3溶液，反應(yīng)后過(guò)濾，取沉淀向其中加入Na₂S溶液，可觀察到                    。

（14分）高純硅是當(dāng)今科技的核心材料。工業(yè)上，用氫氣還原四氯化硅制得高純硅的反應(yīng)為SiCl₄（g）+2H₂（g） Si（s）+4HCl（g） 。已知SiCl₄可完全水解生成硅酸和鹽酸。向容積為1L的密閉容器中充入一定量的SiCl₄（g）和H₂（g），分別在T₁和T₂溫度時(shí)進(jìn)行反應(yīng)。SiCl₄的物質(zhì)的量隨時(shí)間變化情況如下表所示：

（1）T₁時(shí)，反應(yīng)開(kāi)始的2 min內(nèi)，用HCl表示的反應(yīng)速率為              。

（2）該反應(yīng)的平衡常數(shù)表達(dá)式為：K＝                           。

（3）保持其他條件不變，下列措施可提高SiCl₄轉(zhuǎn)化率的是      　　　    。

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b．充入更多的H₂（g）

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（5）有同學(xué)認(rèn)為，采用水淋法來(lái)吸收生成的HCl，可以提高SiCl₄的轉(zhuǎn)化率。該認(rèn)識(shí)      （填“合理”或“不合理”），理由是                            。

（6）將平衡后的混合氣體溶于水，取少量上層清液，向其中滴加足 量的AgNO3溶液，反應(yīng)后過(guò)濾，取沉淀向其中加入Na₂S溶液，可觀察到                   。