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8．四氯化硅還原法是當(dāng)前制備較高純度硅的一種方法.有關(guān)反應(yīng)的化學(xué)方程式為: SiCl4 + 2H2高溫4HCl + Si 下列說(shuō)法不合理的是 ( ) A．反應(yīng)制得的硅可用于制造半導(dǎo)體材料 B．增大壓強(qiáng)有利于加快上述反應(yīng)的化學(xué)反應(yīng)速率 C．四氯化硅可以由粗硅與氯氣通過(guò)化合反應(yīng)制得 D．混入少量空氣對(duì)上述反應(yīng)無(wú)影響 【查看更多】

 

題目列表(包括答案和解析)

四氯化硅還原法是當(dāng)前制備較高純度硅的一種方法，有關(guān)反應(yīng)的化學(xué)方程式為：SiCl4+2H2
 高溫 
.
 
4HCl+Si下列說(shuō)法不合理的是（　　）

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四氯化硅還原法是當(dāng)前制備較高純度硅的一種方法，有關(guān)反應(yīng)的化學(xué)方程式為：SiCl4（g）+2H2（g）
 高溫 
.
 
Si（s）+4HCl（g）．下列說(shuō)法合理的是（　�。�
A、光導(dǎo)纖維的主要成分是硅單質(zhì)
B、減小壓強(qiáng)有利于加快化學(xué)反應(yīng)速率
C、高溫下，氫氣的還原性強(qiáng)于硅
D、混入少量空氣對(duì)上述反應(yīng)無(wú)影響

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四氯化硅還原法是當(dāng)前制備較高純度硅的一種方法，有關(guān)反應(yīng)的化學(xué)方程式為：
SiCl4＋2H24HCl＋Si
下列說(shuō)法不合理的是

A．反應(yīng)制得的硅可用于制造半導(dǎo)體材料
B．增大壓強(qiáng)有利于加快上述反應(yīng)的化學(xué)反應(yīng)速率
C．四氯化硅可以由粗硅與氯氣通過(guò)化合反應(yīng)制得
D．混入少量空氣對(duì)上述反應(yīng)無(wú)影響

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四氯化硅還原法是當(dāng)前制備較高純度硅的一種方法，有關(guān)反應(yīng)的化學(xué)方程式為：

SiCl4＋2H24HCl＋Si

下列說(shuō)法不合理的是

A．反應(yīng)制得的硅可用于制造半導(dǎo)體材料

B．增大壓強(qiáng)有利于加快上述反應(yīng)的化學(xué)反應(yīng)速率

C．四氯化硅可以由粗硅與氯氣通過(guò)化合反應(yīng)制得

D．混入少量空氣對(duì)上述反應(yīng)無(wú)影響

 

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四氯化硅還原法是當(dāng)前制備較高純度硅的一種方法，有關(guān)反應(yīng)的化學(xué)方程式為：SiCl4+2H2
 高溫 
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4HCl+Si下列說(shuō)法不合理的是（　　）
A．反應(yīng)制得的硅可用于制造半導(dǎo)體材料
B．增大壓強(qiáng)有利于加快上述反應(yīng)的化學(xué)反應(yīng)速率
C．四氯化硅可以由粗硅與氯氣通過(guò)化合反應(yīng)制得
D．混入少量空氣對(duì)上述反應(yīng)無(wú)影響

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