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+3 -3 (3)SiC 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

(5分)通常人們把拆開1 mol某化學鍵所吸收的能量看成該化學鍵的鍵能。鍵能的大小可以衡量化學鍵的強弱,也可以估算化學反應的反應熱(△H),化學反應的△H等于反應中斷裂舊化學鍵的鍵能之和與反應中形成新化學鍵的鍵能之和的差。

化學鍵

Si-O

Si-Cl

H-H

H-Cl

Si-Si

Si-C

鍵能/kJ?mol-1

460

360

436

431

176

347

請回答下列問題:

(1) 比較下列兩組物質(zhì)的熔點高低(填“>”或“<”)

SiC         Si; SiCl4_________SiO2

(2) 右圖立方體中心的“●”表示硅晶體中的一個原子,請在立方體的頂點用“●”表示出與之緊鄰的硅原子。

(3) 工業(yè)上用高純硅可通過下列反應制。

SiCl4(g)+2H­2(g)Si(s)+4HCl(g);  該反應的反應熱△H=       kJ/mol

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(化學-物質(zhì)結(jié)構與性質(zhì))w.w.w.k.s.5.u.c.o.m

C和Si元素在化學中占有極其重要的地位。

(1)寫出Si的基態(tài)原子核外電子排布式    。

從電負性角度分析,C、Si和O元素的非金屬活潑性由強至弱的順序為    。

(2)SiC的晶體結(jié)構與晶體硅的相似,其中C原子的雜化方式為    ,微粒間存在的作用力是    。

(3)氧化物MO的電子總數(shù)與SiC的相等,則M為    (填元素符號)。MO是優(yōu)良的耐高溫材料,其晶體結(jié)構與NaCl晶體相似。MO的熔點比CaO的高,其原因是    。

(4)C、Si為同一主族的元素,CO2和SiO2化學式相似,但結(jié)構和性質(zhì)有很大不同。CO2中C與O原子間形成鍵和鍵,SiO2中Si與O原子間不形成上述健。從原子半徑大小的角度分析,為何C、O原子間能形成,而Si、O原子間不能形成上述    。

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碳化硅(SiC) 、氧化鋁(Al2O3) 和氮化硅(Si3N4)是優(yōu)良的高溫結(jié)構陶瓷,在工業(yè)生產(chǎn)和科技領域有重要用途。宇宙火箭和導彈中,大量用鈦代替鋼鐵。
(1)Al的離子結(jié)構示意圖為                  ;
Al與NaOH溶液反應的離子方程式為                                         
(2)氮化硅抗腐蝕能力很強,但易被氫氟酸腐蝕,氮化硅與氫氟酸反應生成四氟化硅和一種銨鹽,
其反應方程式為                                                
(3)工業(yè)上用化學氣相沉積法制備氮化硅,其反應如下:
3SiCl4(g) + x N2(g) + 6 H2(g)   Si3N4(s) + 12 HCl(g)   △H<0  
在恒溫、恒容時,分別將0.3mol SiCl4(g)、0.2mol N2(g)、0.6mol H2(g)充入2 L密閉容器內(nèi),進行上述反應,5 min達到平衡狀態(tài),所得HCl(g)為0.3mol/L、 N2為0.05 mol/L
① H2的平均反應速率是                       
② 反應前與達到平衡時容器內(nèi)的壓強之比=           
③ 系數(shù) x =     
(4)已知:TiO2(s)+2Cl2(g)===TiCl4(l)+O2(g)  ΔH1=+140 kJ·mol-1
C(s)+O2(g)=== CO(g)    ΔH2 =-110 kJ·mol-1
寫出TiO2和焦炭、氯氣反應生成TiCl4和CO氣體的熱化學方程式:
                                                                              。

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碳化硅(SiC) 、氧化鋁(Al2O3) 和氮化硅(Si3N4)是優(yōu)良的高溫結(jié)構陶瓷,在工業(yè)生產(chǎn)和科技領域有重要用途。宇宙火箭和導彈中,大量用鈦代替鋼鐵。

(1)Al的離子結(jié)構示意圖為                  

Al與NaOH溶液反應的離子方程式為                                         

(2)氮化硅抗腐蝕能力很強,但易被氫氟酸腐蝕,氮化硅與氫氟酸反應生成四氟化硅和一種銨鹽,

其反應方程式為                                                

(3)工業(yè)上用化學氣相沉積法制備氮化硅,其反應如下:

3SiCl4(g) + x N2(g) + 6 H2(g)   Si3N4(s) + 12 HCl(g)   △H<0  

在恒溫、恒容時,分別將0.3mol SiCl4(g)、0.2mol N2(g)、0.6mol H2(g)充入2 L密閉容器內(nèi),進行上述反應,5 min達到平衡狀態(tài),所得HCl(g)為0.3mol/L、 N2為0.05 mol/L

① H2的平均反應速率是                       

② 反應前與達到平衡時容器內(nèi)的壓強之比=           

③ 系數(shù) x =     

(4)已知:TiO2(s)+2Cl2(g)===TiCl4(l)+O2(g)  ΔH1=+140 kJ·mol1

C(s)+O2(g)=== CO(g)    ΔH2 =-110 kJ·mol1

寫出TiO2和焦炭、氯氣反應生成TiCl4和CO氣體的熱化學方程式:

                                                                              。

 

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碳化硅(SiC) 、氧化鋁(Al2O3) 和氮化硅(Si3N4)是優(yōu)良的高溫結(jié)構陶瓷,在工業(yè)生產(chǎn)和科技領域有重要用途。宇宙火箭和導彈中,大量用鈦代替鋼鐵。
(1)Al的離子結(jié)構示意圖為                  ;
Al與NaOH溶液反應的離子方程式為                                         
(2)氮化硅抗腐蝕能力很強,但易被氫氟酸腐蝕,氮化硅與氫氟酸反應生成四氟化硅和一種銨鹽,
其反應方程式為                                                
(3)工業(yè)上用化學氣相沉積法制備氮化硅,其反應如下:
3SiCl4(g) + x N2(g) + 6 H2(g)   Si3N4(s) + 12 HCl(g)   △H<0  
在恒溫、恒容時,分別將0.3mol SiCl4(g)、0.2mol N2(g)、0.6mol H2(g)充入2 L密閉容器內(nèi),進行上述反應,5 min達到平衡狀態(tài),所得HCl(g)為0.3mol/L、 N2為0.05 mol/L
① H2的平均反應速率是                       
② 反應前與達到平衡時容器內(nèi)的壓強之比=           
③ 系數(shù) x =     
(4)已知:TiO2(s)+2Cl2(g)===TiCl4(l)+O2(g)  ΔH1=+140 kJ·mol-1
C(s)+O2(g)=== CO(g)    ΔH2 =-110 kJ·mol-1
寫出TiO2和焦炭、氯氣反應生成TiCl4和CO氣體的熱化學方程式:
                                                                              。

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