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10.光刻膠是大規(guī)模集成電路印刷電路版技術(shù)中的關(guān)鍵材料.某一光刻膠的主要成分如圖所示.下列有關(guān)說法正確的是 ( ) A.合成此高聚物的單體的化學(xué)式為C11H10O2 B.1 mol該物質(zhì)可消耗4molH2 C.該物質(zhì)可穩(wěn)定存在于堿性溶液中 D.該物質(zhì)可經(jīng)過縮聚反應(yīng)制得 11.霉酚酸酯(MMF)是器官移植中抑制細胞增殖 最常用的藥物.下列關(guān)于說法正確的是( ) A.MMF能溶于水 B.MMF能發(fā)生取代反應(yīng)和消去反應(yīng) C.1molMMF能與6mol氫氣發(fā)生加成反應(yīng) D.1molMMF能與含3molNaOH的水溶液完全反應(yīng) 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

光刻膠是大規(guī)模集成電路印刷電路版技術(shù)中的關(guān)鍵材料,某一光刻膠的主要成分如圖所示,下列有關(guān)說法正確的是( 。

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光刻膠是大規(guī)模集成電路印刷電路版技術(shù)中的關(guān)鍵材料,某一光刻膠的主要成分如圖所示,下列有關(guān)說法正確的是( 。

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光刻膠是大規(guī)模集成電路印刷電路版技術(shù)中的關(guān)鍵材料,某一光刻膠的主要成分如圖所示,下列有關(guān)說法正確的是( 。
A.合成此高聚物的單體的化學(xué)式為C11H10O2
B.1 mol該物質(zhì)可消耗4molH2
C.該物質(zhì)可穩(wěn)定存在于堿性溶液中
D.該物質(zhì)可經(jīng)過加聚反應(yīng)制得
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光刻膠是大規(guī)模集成電路印刷電路版技術(shù)中的關(guān)鍵材料,某一光刻膠的主要成分如圖所示,下列有關(guān)說法正確的是( )

A.合成此高聚物的單體的化學(xué)式為C11H10O2
B.1 mol該物質(zhì)可消耗4molH2
C.該物質(zhì)可穩(wěn)定存在于堿性溶液中
D.該物質(zhì)可經(jīng)過加聚反應(yīng)制得

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光刻膠是大規(guī)模集成電路、印刷電路板和激光制版技術(shù)中的關(guān)鍵材料.某一肉桂酸型光刻膠的主要成分A經(jīng)光照固化轉(zhuǎn)變?yōu)锽.

(1)請指出A中含有的官能團名稱
酯基、碳碳雙鍵
酯基、碳碳雙鍵
(填兩種).
(2)A經(jīng)光照固化轉(zhuǎn)變?yōu)锽,發(fā)生了
加成
加成
反應(yīng)(填反應(yīng)類型).
(3)寫出A與NaOH溶液反應(yīng)的化學(xué)方程式

(4)寫出B在酸性條件下水解得到的芳香族化合物的分子式
C18H16O4
C18H16O4

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