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例8:普通玻璃的主要成分為Na2CaSi6O14.以氧化物的形式可表示為 ,鉀云母的化學(xué)式為K2H4Al6Si6O24.以氧化物的形式可表示為 ,正長(zhǎng)石的化學(xué)式為KAlSi3Ox.x的數(shù)值為 .以氧化物的形式可表示為 . 解析:硅酸鹽以氧化物的形式可表示為活潑金屬氧化物·較活潑金屬氧化物·SiO2·H2O.所以普通玻璃Na2CaSi6O14-Na2O·CaO·6SiO2,鉀云母K2H4Al6Si6O24-K2O·3Al2O3·6SiO2·2H2O,正長(zhǎng)石KAlSi3Ox-K2O·Al2O3·6SiO2.則x=8. 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

硅在地殼中的含量較高,硅及其化合物的開(kāi)發(fā)由來(lái)已久,在現(xiàn)代生活中有廣泛應(yīng)用.回答下列問(wèn)題:
(1)陶瓷、水泥和玻璃是常用的傳統(tǒng)的無(wú)機(jī)非金屬材料,其中生產(chǎn)普通玻璃的主要原料有
 

(2)高純硅是現(xiàn)代信息、半導(dǎo)體和光伏發(fā)電等產(chǎn)業(yè)都需要的基礎(chǔ)材料.工業(yè)上提純硅有多種路線(xiàn),其中一種工藝流程示意圖及主要反應(yīng)如圖:
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①工業(yè)上用石英砂和焦炭在電弧爐中高溫加熱到1600℃-1800℃除生成粗硅外,也可以生產(chǎn)碳化硅,則在電弧爐內(nèi)可能發(fā)生的反應(yīng)的化學(xué)方程式為
 

②在流化床反應(yīng)的產(chǎn)物中,SiHCl3大約占85%,還有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等,粗硅生成SiHCl3的化學(xué)反應(yīng)方程式
 

(3)有關(guān)物質(zhì)的沸點(diǎn)數(shù)據(jù)如下表,提純SiHCl3的主要工藝操作依次是沉降、冷凝和
 
;SiHCl3極易水解,其完全水解的產(chǎn)物為
 

物質(zhì) Si SiCl4 SiHCl3 SiH2Cl2 SiH3Cl HCl SiH4
沸點(diǎn)/℃ 2355 57.6 31.8 8.2 -30.4 -84.9 -111.9
(4)還原爐中發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)為:
 

(5)氯堿工業(yè)可為上述工藝生產(chǎn)提供部分原料,這些原料是
 

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硅在地殼中的含量較高。硅及其化合物的開(kāi)發(fā)由來(lái)已久,在現(xiàn)代生活中有廣泛應(yīng)用;卮鹣铝袉(wèn)題:

(1)1810年瑞典化學(xué)家貝采利烏斯在加熱石英砂、木炭和鐵時(shí),得到一種“金屬”。這種“金屬”可能是       。

(2)陶瓷、水泥和玻璃是常用的硅酸鹽材料。其中,生產(chǎn)普通玻璃的主要原料有       

(3)高純硅是現(xiàn)代信息、半導(dǎo)體和光伏發(fā)電等產(chǎn)業(yè)都需要的基礎(chǔ)材料。工業(yè)上提純硅有多種路線(xiàn),其中一種工藝流程示意圖及主要反應(yīng)如下:

 

發(fā)生的主要反應(yīng)

電弧爐

SiO2+2CSi+2CO↑

流化床反應(yīng)器

Si+3HClSiHCl3+H2

還原爐

SiHCl3+H2Si+3HCl

 

①用石英砂和焦炭在電弧爐中高溫加熱也可以生產(chǎn)碳化硅,該反應(yīng)的化學(xué)方程式為       ;碳化硅又稱(chēng)       ,其晶體結(jié)構(gòu)與       相似。

②在流化床反應(yīng)的產(chǎn)物中,SiHCl3大約占85%,還有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等,有關(guān)物質(zhì)的沸點(diǎn)數(shù)據(jù)如下表,提純SiHCl3的主要工藝操作依次是沉降、冷凝和       。

物質(zhì)

Si

SiCl4

SiHCl3

SiH2Cl2

SiH3Cl

HCl

SiH4

沸點(diǎn)/℃

2355

57.6

31.8

8.2

-30.4

-84.9

-111.9

③SiHCl3極易水解,其完全水解的產(chǎn)物為       。

(4)氯堿工業(yè)可為上述工藝生產(chǎn)提供部分原料,這些原料是       。

 

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硅在地殼中的含量較高。硅及其化合物的開(kāi)發(fā)由來(lái)已久,在現(xiàn)代生活中有廣泛應(yīng)用。回答下列問(wèn)題:

       (1)1810年瑞典化學(xué)家貝采利烏斯在加熱石英砂、木炭和鐵時(shí),得到一種“金屬”。這種“金屬”可能是        。

(2)陶瓷、水泥和玻璃是常用的硅酸鹽材料。其中,生產(chǎn)普通玻璃的主要原料有       

(3)高純硅是現(xiàn)代信息、半導(dǎo)體和光伏發(fā)電等產(chǎn)業(yè)都需要的基礎(chǔ)材料。工業(yè)上提純硅有多種路線(xiàn),其中一種工藝流程示意圖及主要反應(yīng)如下:

①用石英砂和焦炭在電弧爐中高溫加熱也可以生產(chǎn)碳化硅,該反應(yīng)的化學(xué)方程式為        ;碳化硅又稱(chēng)        ,其晶體結(jié)構(gòu)與        相似。

②在流化床反應(yīng)的產(chǎn)物中,SiHCl3大約占85%,還有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等,有關(guān)物質(zhì)的沸點(diǎn)數(shù)據(jù)如下表,提純SiHCl3的主要工藝操作依次是沉降、冷凝和        。

物質(zhì)

Si

SiCl4

SiHCl3

SiH2Cl2

SiH3Cl

HCl

SiH4

沸點(diǎn)/℃

2355

57.6

31.8

8.2

-30.4

-84.9

-111.9

③SiHCl3極易水解,其完全水解的產(chǎn)物為        。

(4)氯堿工業(yè)可為上述工藝生產(chǎn)提供部分原料,這些原料是        。

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(1)制造普通玻璃的主要化學(xué)反應(yīng)有:                             

(2)盛放堿液的試劑瓶不能用玻璃塞,是為了防止發(fā)生         反應(yīng)(以NaOH為例用化學(xué)方程式表示),避免瓶塞與瓶口粘在一起。

(3)一些高新技術(shù)產(chǎn)品的元件中使用的硅是極其純凈、幾乎沒(méi)有任何缺陷的單晶硅。其工業(yè)制法為:先在電爐中用炭粉還原二氧化硅制得不純的“粗硅”;然后在高溫下讓粗硅與氯氣反應(yīng),其產(chǎn)物在高溫下被氫氣還原,從而得到較純的硅。請(qǐng)寫(xiě)出上述過(guò)程中有關(guān)反應(yīng)的化學(xué)方程式:                                    

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2011年國(guó)際先進(jìn)玻璃熔制技術(shù)研討會(huì)于5月8日~10日在上海舉行。下列有關(guān)玻璃的說(shuō)法不正確的是
[     ]
A.制普通玻璃的原料主要是純堿、石灰石和石英
B.普通玻璃的主要成分之一是二氧化硅
C.普通玻璃有固定的熔點(diǎn)
D.盛放燒堿溶液的試劑瓶不能用玻璃塞,是為了防止燒堿跟二氧化硅反應(yīng)生成硅酸鈉而使瓶塞與瓶口粘在一起

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